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Deposizione chimica da vapore — Wikipedia

Source: Wikipedia
Original: https://it.wikipedia.org/wiki/Deposizione_chimica_da_vapore
License (as archived): CC-BY-SA-4.0
Archived: 2026-10-06T02:34:16.862Z
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La deposizione chimica da vapore è una tecnica di sintesi che permette di ottenere su supporto solido un deposito a partire da un precursore molecolare, introdotto in forma gassosa e che si decompone sulla superficie del substrato. Il trasporto del precursore avviene mediante l'uso di un gas di trasporto come ossigeno, argon, idrogeno o azoto, grazie al quale vengono poi allontanati dal sistema anche i prodotti di decomposizione gassosi.

Fonte: Wikipedia in italiano, voce «Deposizione chimica da vapore» — https://it.wikipedia.org/wiki/Deposizione_chimica_da_vapore
Descrizione breve (Wikidata Q505668): processo utilizzato per la deposizione in strato sottile del rivestimento superficiale
Autori: i contributori di Wikipedia (cronologia: https://it.wikipedia.org/wiki/Deposizione_chimica_da_vapore?action=history).
Licenza: Creative Commons Attribuzione-Condividi allo stesso modo 4.0 (CC BY-SA 4.0) — https://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/deed.it. Il riuso richiede citazione della fonte e stessa licenza.
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Tema del circolo che l'ha scelta: Chimica. Impronta SHA-256 dell'estratto: a06742acb9b523cc5186bcc5fa262debf54206ed0ba13688fe93f422c80ea8b0