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Ionenstrahlgestützte Deposition — Wikipedia (de)

Source: Wikipedia (de)
Original: https://de.wikipedia.org/wiki/Ionenstrahlgest%C3%BCtzte_Deposition
License (as archived): CC-BY-SA-4.0
Archived: 2026-11-09T04:51:14.963Z
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Die ionenstrahlgestützte Deposition, auch ionenstrahlgestützte Abscheidung, ionenstrahlgestützte Beschichtung oder ionenstrahlgestützte Beschichtungstechnik genannt, (englisch ion beam assisted deposition, IBAD) ist ein Beschichtungsverfahren aus der Gruppe der physikalischen Gasphasenabscheidung. Es wird vorrangig für die Herstellung dünner Schichten eingesetzt. Dies geschieht durch das Abscheiden bei gleichzeitiger Synthese von Metallatomen und Gasen auf Substraten. Dabei werden Metalle über unterschiedliche Methoden verdampft, Gasmoleküle durch Ionenquellen dissoziiert, ionisiert und gleichzeitig einer meist beheizten Substratoberfläche angeboten. Im Gegensatz zu den meisten anderen Abscheidungsmethoden laufen bei der Ionendeposition mit energetischen Ionen von 10 eV bis hin zu 1000 eV die wesentlichen Wachstums- und Phasenbildungsprozesse wenige nm unterhalb der Oberfläche der wachsenden Schicht ab. Auf diese Weise erlaubt das Verfahren das Gefüge, chemische Eigenschaften sowie Texturierung dünner Filme oder auch Beschichtungen schon während des Herstellungsprozesses gezielt zu beeinflussen.

Tema degli esploratori: scibile generale (retro-catalogo completo della fonte, senza filtro di tema) (deposito sistematico; retro-catalogo: tutte le voci di Wikipedia in tedesco, in ordine alfabetico).
Fonte: Wikipedia in tedesco, voce «Ionenstrahlgestützte Deposition» — https://de.wikipedia.org/wiki/Ionenstrahlgest%C3%BCtzte_Deposition
Wikidata Q904053: «materials engineering technique» (dati Wikidata in CC0 1.0) — https://www.wikidata.org/wiki/Q904053
Autori: i contributori di Wikipedia (cronologia: https://de.wikipedia.org/wiki/Ionenstrahlgest%C3%BCtzte_Deposition?action=history).
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