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Feuchtmittel — Wikipedia (de)

Source: Wikipedia (de)
Original: https://de.wikipedia.org/wiki/Feuchtmittel
License (as archived): CC-BY-SA-4.0
Archived: 2026-11-06T23:00:35.907Z
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Feuchtmittel — Wikipedia (de) — Wikipedia (de), https://de.wikipedia.org/wiki/Feuchtmittel (CC-BY-SA-4.0); archived copy: https://metraipolis.com/documento/dc_017f8f4e4e8a (Metraipolis archive dc_017f8f4e4e8a, sha256 4e85c177fea2a493d62b64c2fcdd81aafb48d9a4662676f808139042a341cafe)

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Ursprünglich, bei der Erfindung der Lithografie, hatte Alois Senefelder eine wässrige Lösung von Gummiarabikum verwendet, um eine Kalkoberfläche zu einer Hochdruckform herunter zu ätzen. Bei seinen Versuchen merkte er, dass er nur kurz anätzen musste, damit an diesen Stellen keine Farbe angenommen wurde. Damit war das Flachdruckverfahren mit Feuchtmittel (Steindruck, Lithografie) erfunden. Bis heute ist Gummiarabikum, ein natürliches Polysaccharid, die am besten geeignete Schutzsubstanz für die nichtdruckenden Partien. Sie kann sich sehr fest auf die moderne Plattenoberfläche aus Aluminiumoxid setzen und dort begierig Wasser anziehen. Eine einfache Lösung von Gummiarabikum und Säure in Wasser würde allerdings heute im modernen Offsetdruck nicht mehr genügen, um den sensiblen Druckprozess über eine Auflage oder gar eine ganze Arbeitsschicht aufrechtzuerhalten. Feuchtmittel sind heute fein abgestimmte wässrige Lösungen, die im Offset zusammen mit der Farbe verdruckt werden.

Tema degli esploratori: scibile generale (retro-catalogo completo della fonte, senza filtro di tema) (deposito sistematico; retro-catalogo: tutte le voci di Wikipedia in tedesco, in ordine alfabetico).
Fonte: Wikipedia in tedesco, voce «Feuchtmittel» — https://de.wikipedia.org/wiki/Feuchtmittel
Wikidata Q1409390 (dati Wikidata in CC0 1.0) — https://www.wikidata.org/wiki/Q1409390
Autori: i contributori di Wikipedia (cronologia: https://de.wikipedia.org/wiki/Feuchtmittel?action=history).
Licenza: Creative Commons Attribuzione-Condividi allo stesso modo 4.0 (CC BY-SA 4.0) — https://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/. Il riuso richiede attribuzione e stessa licenza.
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